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《半导体行业的革新产品出现》

《阿斯麦公司率先研发出EUV光刻机》

《芯片工艺制程或将提升十倍》

《芯片工艺已将达到物理极限》

在依然还有着‘魔力’‘外星生物’这些热点的时候，阿斯麦的EUV光刻机在背后一群资本的运作下，立刻就登上了全球热点。

本来正常来说，一件商品的更新迭代都是有迹可循的，或者说会有着技术储备。

比如明明EUV光刻机是重新的新开赛道，和以前的DUV光刻机关系不大，但在平行世界这也硬是等到了芯片达到了DUV光刻机极限的7nm瓶颈后才拿出来的。

但在这里，因为安布雷拉DUV光刻机带来的压力，还有人工智能以及量子计算+超算的模式前景摆在这里。

为了重新争夺这尖端利润，为了更美好的前景。

在如今最顶级的芯片工艺制程还是14nm的时候，阿斯麦公司就端出了他们的EUV光刻机。

而且因为安布雷拉对镜片领域的影响加持，还有其他各方面技术带来的竞争感。

阿斯麦这次提前拿出的EUV光刻机比原本计划的各项技术参数，还要更加优秀！

某积电、四星、英特尔等晶圆厂都已经到货，并开始组装调试！

显然阿斯麦的EUV光刻机并不是说刚刚才造出来的，是已经开始供货让他们加班加点的完成组装后才开始官宣的。

为的就是一步到位，为的就是减少给竞争对手的反应时间！

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