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“怎么可能！”

各大晶圆厂难以置信。

阿斯麦也同样感到了匪夷所思。

安布雷拉设计出14nm的芯片是没有任何人怀疑。

现在大家用的EDA可都是他们优化的。

可特么前面量产20nm已经够夸张了，现在14nm都出来了？

三年前就有了20nm级别的工艺！到现在才正式突破14nm，这其中可并不单单造出来就行了，还有着良品率等一系列问题来保证不会亏本，来保证有盈利！

这其中要攻克的技术，要克服的难点只有他们这些一路走来的晶圆厂才心中清楚！

而且看样子是已经开始量产并备货了！

怎么可能这么快？

前面20nm的产量就很夸张了？为何能这样？

随着安布雷拉的DUV光刻机逐渐到货后，各方面也都开始发现了原因。

看到还是干式光刻机其实他们都有点懵。

本以为安布雷拉是也突破了浸润光刻法才追上的，结果人家浸润的技术都还没用出来！

纯粹靠着强大的镜头硬生生的完成了弯道追赶。

光源波长和各种参数都是摆在这里的，他们能够轻易算出这台光刻机极限精度达不到阿斯麦的水平。

多次曝光也很难达到7nm极限。

可是……

“感觉这台光刻机的良品率好高啊，我们还只是随便组了一下试试，调试都没用多久，良品率方面竟然就不比正常生产线要差了。”

积电的工程师满脸惊叹。

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