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第三百五十一章 投影式光刻技术

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晚上十二点,整个江夏电子厂的大部分车间都已经黑漆漆一片,只有值夜班的保卫科人员,在打着手电筒来回巡逻。

然而只在芯片车间所在的西北角,这里仍然灯火通明,那为了避免干扰光刻而独有的黄光,代表里面仍然处于紧张的工作状态,那黄澄澄如同雾蒙蒙一般的光晕,似乎也预示着光刻作为顶尖精密制造的神秘。

车间办公室里,总工程师张本松和一众工程师都围坐在桌前开会。

“的确这种投影式光刻机对比之前的接触式光刻机提高了相当大精度,而且采用凹透镜和凸透镜相结合的高斯型镜头,也能消除大部分场曲和像差。”

“除此之外还有光掩模的制作,以及烘焙刻蚀这些,也基本和接触式光刻步骤一样,不需要我们额外掌握,甚至于由于光掩模无需再直接接触光刻胶,烘焙的精度也变得不那么重要,这是我们的优势。”

“但同时我们也必须注意到,由于接触改投影,我们也面????????????????临光刻方面的新问题,首当其冲的就是光衍射问题……”

还是那个最烦人的原理,光不是沿一条直线传播,而是具有波粒二象性,尤其在通过窄缝以后,这种衍射现象更加严重。

“虽然经过今天一天的测试,以及和江夏电子厂的同志,还有远在宁海的同志交流以后,对我们有很大的启发,我们也收获了相当不错的成果,但这还远远不够,我希望大家明天能再接再厉,早日攻克投影式光刻技术!”

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