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一九六一年，GCA是第一家制造商业步进和重复掩模减少设备的公司；七五年，推出了首个用于抗蚀剂加工的晶圆轨道；七八年，推出DSW4800、第一个成功的晶圆光刻机；八五年研发出第一台为贝尔实验室开发的DUV步进投影式光刻机。

技术实力雄厚。

八八年，GeneralSignal以七千六百万美元收购了陷入财务困境的GCA，随后，Sematech资助GCA开发KrF光刻机。

前世因为美国人不准ASML生产的EUV光刻机卖给国内，讨论光刻机文章经常出现在网络上，爱国的知识分子义愤填膺，知识无国界只是一句谎言。

光刻机的技术迭代历程分为五代，第一代为g-line，波长436nm接近式光刻机、芯片制程800-250nm；第二代为i-line，波长365nm接近式光刻机、芯片制程800-250nm；第三代为KrF，波长248扫描投影式光刻机、芯片制程180-130nm；第四代为ArF，波长193nm浸入步进式或步进投影式光刻机，浸入步进式的芯片制程45-7nm，步进投影式的芯片制程130-65nm；第五代为EUV，波长为13.5nm，极紫外式芯片制程7-3nm。

九零年，刚进入光刻机设备领域不久的SVG，大股东硅谷集团曾试图以七千万美元的价格收购陷入亏损的GCA，但交易未成，然而，SVG却成功地以二千万美元收购了P＆E的光刻业务，获得了P＆E与IBM联合开发的下一代步进扫描系统Mi。

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